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產(chǎn)品中心

    立式氫氣保護燒結爐

    產(chǎn)品介紹

    一、主要用途:主要用于鎢、鉬粉末冶金的氫氣氣氛保護電阻加熱燒結、電子行業(yè)陶瓷金屬化表面處理、材料無(wú)氧化處理等領(lǐng)域。

    二、設備構成:水冷爐體、鉬發(fā)熱體、電源、真空系統、操作柜、 工作平臺、電氣控制系統、計算機系統、溫度控制系統、升降機構、底盤(pán)(鉬制料架)、平臺、充氣快冷系統、水冷系統、氣動(dòng)系統等組成。

    該系列氫氣保護鉬絲電阻加熱爐采用鎢、鉬帶發(fā)熱體鉬絲、棒作為加熱元件;鎢、鉬隔熱屏,尤其適用于高氫氣氛下燒結鎢、鉬材料的高溫燒結,該爐具有溫差均勻、更換方便,耐溫高、壽命長(cháng)等特點(diǎn)。用途 應用于硬質(zhì)合金材料、鎢、鉬等真空/氣氛燒結。

    三、主要技術(shù)參數

    *溫度:1100~1650℃

    預抽真空度:10Pa

    爐內工作氣氛:真空、氫氣、氮氣、惰性氣體等;

    冷卻方式:自然冷卻、氫氣外循環(huán)快冷

    控制方式:手動(dòng)+程序自控

    溫度測量:鎢錸熱電偶、紅外測溫儀測溫;

    溫度控制:程序控制和手動(dòng)控制;

    控溫精度:±1℃;

    升溫速度:200~600℃/分鐘(空爐,視高溫區容積和爐膛結構而定)。

    四、裝出料方式、*裝爐量Kg

    1、Φ200×300 1~2 1~2 鐘罩、上出料 50

    2、Φ300×500 1~2 1~2 托盤(pán)、下出料 150

    3、Φ400×700 2~4 2~4 托盤(pán)、下出料 200

    4、Φ500×800 2~4 2~4 托盤(pán)、下出料 300

    5、Φ600×900 4~6 4~6 托盤(pán)、下出料 400

    6、Φ800×1200 4~6 4~6 托盤(pán)、下出料 500


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